二硅化钽TaSi2 纯度99.5% 钽76% 硅23% 集成电路半导体制造 cas12039-79-1-武汉吉业升化工有限公司

产品展厅

您当前的位置：网站首页 > 产品展厅 >合成材料中间体 >二硅化钽TaSi2 纯度99.5% 钽76% 硅23% 集成电路半导体制造 cas12039-79-1

二硅化钽TaSi2 纯度99.5% 钽76% 硅23% 集成电路半导体制造 cas12039-79-1

产品详请

品牌	吉业升
货号	PD-03202
用途	二硅化钽在电子材料领域也具有重要的用途。它是一种半导体材料，具有优异的电导性能和较高的热稳定性。
是否危险化学品	否
包装规格	1kg/瓶
别名	硅化钽
CAS编号	12039-79-1
纯度	99.5%
产地/厂商	湖北武汉
是否进口	否

二硅化钽 （TaSi?）是一种高温合金材料，具有高熔点（2200°C）、高硬度及优异耐腐蚀性，广泛应用于半导体制造 、 能源工业 等领域。

用于 超音速飞行器 前缘鼻锥、机翼的涂层材料，可承受ΔT>1500℃的热震循环（>100次），并应用于 超燃冲压发动机 内衬的梯度层，提升耐热性能。

作为 DRAM存储栅极 和 3D芯片 的 TSV屏障层 材料，其高温稳定性可满足芯片制造中的工艺条件。

用于 涡喷叶片 的 热障涂层 ，以及 偏滤器装甲 ，在高温环境下保持结构稳定。

作为 精细陶瓷原料粉 ，用于 电接触器 和 半导体设备 ，其高纯度（如0.9999纯度）产品适用于精密制造。