氮化铪 （HfN）的应用主要集中在以下领域：

机械与耐磨领域

氮化铪薄膜具有高硬度（显微硬度可达2570 kgf/mm2）和优异附着力，常用于刀具涂层，通过掺杂硼元素可进一步提升硬度至35.27GPa，碳掺杂则使摩擦系数降至0.18。此外，其亚微米级高纯粉体（≥98.5%）可作为增强剂与 ZrB? 复合，实现穿晶与沿晶断裂共存模式。

光学领域

调节氮含量可制备红外反射率达95%的银掺杂薄膜，适用于设备。纳米氮化铪膜因兼具耐高温（熔点2100℃）、耐腐蚀及高透光性，被视为高效光学窗口保护涂层材料，可应用于关键光学器件。

半导体与电子器件

微米级氮化铪粉体（纯度≥99.9%）常用于半导体领域，其立方结构与高纯度特性使其成为重要难熔合金组分。纳米氮化铪因粒径小、比表面积大，可分散于液体或高分子材料中，作为导电材料或涂层应用于电子器件。 23

能源与高温应用

HfN粉体耐高温（沸点5200℃），常用于高温结构材料。掺杂硼元素后，其断裂韧性达5.98 MPa·m1??，可与 ZrB? 复合增强材料性能。