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二硅化钴CoSi2 钴51% 硅48% 黑色粉末 高电阻薄膜材料制备 cas12017-12-8
  • 英文名称:COBALT SILICIDE
  • 品牌:吉业升
  • 产地:湖北武汉
  • 型号:25kg/纸板桶
  • 货号:W00325
  • 纯度:99.5
  • cas:12017-12-8
  • 发布日期: 2024-04-30
  • 更新日期: 2025-09-19
产品详请
产地 湖北武汉
货号 W00325
品牌 吉业升
用途 可促进聚碳硅烷(PCS)的裂解反应,显著提升陶瓷产率,同时降低裂解过程中的线性收缩率,进而改善陶瓷材料的性能
英文名称 COBALT SILICIDE
包装规格 25kg/纸板桶
CAS编号 12017-12-8
纯度 99.5%
别名 二硅化钴
包装 25kg/纸板桶
分子式 CoSi2
级别 工业级

二硅化铬(CrSi?)主要应用于陶瓷材料和高电阻薄膜材料的制备,其独特性能使其在特定领域展现出显著优势。 

陶瓷材料

二硅化铬粉体可促进聚碳硅烷(PCS)的裂解反应,显著提升陶瓷产率,同时降低裂解过程中的线性收缩率,进而改善陶瓷材料的性能。该技术广泛应用于碳化硅陶瓷的制备,通过优化工艺参数实现高性能陶瓷的规模化生产。

高电阻薄膜

硅化铬薄膜具有高电阻率和低电阻温度系数特性,在电子器件中常用于需要稳定电阻性能的场景,如高温环境下的传感器或电路元件。


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